カソード還元法 室蘭工大 境
負の一定電流を印加し皮膜を還元、電位−時間曲線から皮膜の種類、還元に要した時間から皮膜厚さ。
ＣｕＯ、Ｃｕ２Ｏ、Ｃｕ２Ｓの還元電位はー０．７Ｖ、−０．８Ｖ、−１．１５Ｖで水素発生電位は
ＣｕＯ、Ｃｕ２Ｏがー１．３Ｖ、Ｃｕ２Ｓがー１．４Ｖである。
・原理 Ｃｕ酸化膜測定 クオルテック
電気化学的還元電位 高尾 豊田中研
プラトー 酸化物 通電量で厚み
プラトー電位（還元電位） 酸化物の安定度、卑なほど安定
−０．４８Ｖ Ｃｕ２Ｏ
−０．３５ ＣｕＯ
−０．８６ ＳｎＯ
Ｃｈｏ ＥＣ ＬＦＳＮ合金の還元分析 ２００５
腐食は金属の溶解（アノード反応）と水中の溶存酸素の還元（カソード反応、ＯＨ−生成）が同時に起きる。
分極曲線 電流（密度）−電位曲線
アノード反応（金属溶解） 卑な電位で流れる
カソード反応 貴な電位で流れる
Ｃｈｏ 純Ｓｎと合金
還元曲線から還元電位、水素発生の還元電位（−０．７２Ｖ） 水素発生電位
金属の水素発生電位が水素の還元電位より高いと酸化物は完全に還元
Ｂｒａｔｉｎ 表面処理の評価
表面処理での酸化したＩＭＣの検出
住友電工 中山
住友電工 中山
（１２−２−５） ガス腐食
ガス腐食 ＥＳＰＥＣ
tarnish
fretting
Ｈ２Ｓ Ｈ２Ｓ汚染による電子製品の腐食
Ｈ２Ｓや硫化カルボニルのような大気汚染は低相対湿度でも溶解しＨＳ−イオンを生じＡｇやＣｕ腐食を促進する。
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