(11−7) Zn含有はんだとCu、Ni基体

 Zn含有はんだでは他のはんだと異なり、Cu、Ni基体との反応でSnのIMCでなく、ZnのIMCが形成される。
 この場合Zn量によりSnのIMCからZnのIMCに変化していく。
 はんだへのZn添加の影響はSAC等の特性改善のための微量添加と、共晶近傍Sn−ZnのCu及びNi基体との
反応について重点的に研究されている。
 Ni/Auとの反応についてはZn−AuのIMCが形成され、Zn−NiのIMCは形成されないという文献と、Zn−Auの影響を
認めず、Zn−NiのIMCとする文献が並立する。
 ZnはAgともZn−Ag IMCを形成するが、これの影響もはっきりしない。

 Zn−Cu IMCの成長はSn−Cu IMCの成長よりかなり速い。
 また微量添加されたZnはCu3Snの形成を抑制するとされる。

 Bi添加の
 Al添加では

 Sn−Ag+Zn
 SAC+Zn
 Sn−Cu+Zn Sn−Zn+Cu
 Sn−Zn−Bi Sn−Zn−Al

(11−7−1) Sn−xZnとCu基体

国立中央大楊 論文
 Sn−xZn、X=0.5、0.7、2.0
 Zn量によってCu6Sn5からCu5Zn8に変化、その中間はCu6Sn5とCuZnが共存。

 250℃、2分

250℃で2分と10分



Yang 国立台湾大
 はんだ量効果 はんだ浴とはんだボール
 反応相は時間でなく組成の影響、時間はIMCの厚み
 Sn−xZnとCu


 反応相は時間でなく組成の影響、時間はIMCの厚み



Yan
 Cu Sn−xZn、X=0.5、0.7、2.0
 Zn量によってCu6Sn5からCu5Zn8に変化、その中間はCu6Sn5とCuZnが共存。




Ji 重慶大
Sn-6Zn、2層 Cu/薄いCuZn/γCu5Zn8








Siewrt Cu






Yu 台湾国立成功大





(11−7−2) Sn−xZnとNi基体

Zn添加 瀋陽 Zhang
 Sn−xZn(x=0、0.5、1、2)、無電解Ni−10P
 純SnではNi3Sn4の連続層、Pリッチ相が隣接。
 0.5ZnでNi4(Sn,Zn)





Yoon 韓国  Yoon
 Sn−9Zn BGA Ni−P/0.15Au
 AuZn3形成、Ni−Zn、Ni−Sn、Ni3Pは認められない。



 503Kピーク





Yen台湾 電解Ni/0.09Au



Sharif
 電解Niと無電解Ni−P、Auは0.5μm。





 剥離しているのはAuZn3。


 Ni3Pは認められない。



Wang



BEI micrographs of the Sn?Zn/Ni interfacial reactions at 170 °C with various reaction time. (a) Sn-9wt%Zn/Ni for 120 h,
(b) Sn-3wt%Zn/Ni for 120 h, (c) and (d) Sn-1wt%Zn/Ni for 120 h and 1320 h, respectively,
(e) Sn-3wt%Zn/Ni for 480 h and (f) Sn-9wt%Zn/Ni for 240 h


(a)〜(c) The natural logarithm of the Ni5Zn21 thickness versus the natural logarithm of time in the solid/solid reactions
of Ni with Sn-3wt%Zn/Ni, Sn-5wt%Zn and Sn-9wt%Zn, respectively. (d)〜(e) The natural logarithm of the Ni5Zn21 growth
in the liquid/solid reactions of Sn-7wt%Zn/Ni and Sn-9wt%Zn/Ni, respectively.

Plots of square of the Ni5Zn21 layer thickness versus the reaction time in Sn?Zn/Ni solid/solid couples at (a) 150 °C,
(b) 160 °C and (c) 170 °C.

Wang


BEI micrographs of Sn-9 wt%Zn/Ni couples reacted at 250 °C for (a) 1 h, (b) 6 h, and (c) 24 h.

ISE micrographs of Ni5Zn21 layer at Sn-9 wt%Zn/Ni interface after reaction at 250 °C for (a) 1 h, (b) 6 h, (c) 12 h,
(d) 24 h, (e) 36 h, and (f) 48 h.

The sublayer thickness of the Ni5Zn21 versus the reaction time in Sn-9 wt%Zn/Ni interfacial reactions at 250 °C

FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/Ni interface at 250 °C for (a) 12 h and (b) 24 h.
(c) The enlarged micrograph for the rectangular region enclosed by dotted lines in (b). (d)
FIB cross-sectional images of the interface with rolled and annealed Ni foil at 250 °C for 12 h.



BEI micrograph of the Sn-9 wt%Zn/Ni couple reacted at 250 °C for 24 h. (b) EPMA line analysis across Sn-9 wt%Zn/Ni interface.


FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/Ni interface at 250 °C for (a) 10 min, (b) 20 min, (c) 30 min, and (d) 40 min.


Schematic illustrations of microstructure evolution of Ni5Zn21 formation. (a) Stage 1, (b) Stage 2, (c) Stage 3, and (d) Stage 4.

(a) FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/electroplated Ni couple reacted at 170 °C for 72 h. (b) and
(c) ISE micrographs of Ni5Zn21 layer formed with rolled and annealed Ni foil at 170 °C for 120 h and 600 h,
respectively. (d) FIB cross-sectional image of Ni5Zn21 layer in (b).

(11−7−3) Sn−Zn−Bi

菅沼の概観 各種低温



HH問題(大阪大菅沼) 
 界面IMCはCu5Zn8、薄いCu−Zn相がCu側に存在。
 エージングで反応層は凸凹が激しくなっていく。
 はんだの共晶Zn相がエージングでCu5Zn8相に変化していく。





Mayappan
 Bi添加

IMC layer formed between solder/Cu joints for as-soldered Sn-8Zn-3Bi solder.

IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 125 °C for 700 h for (a) Sn-9Zn and (b) Sn-8Zn-3Bi solders.

IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 150 °C for 100 h for Sn-9Zn solder (Mag, 2000×).

IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 150 °C for 500 h for Sn-8Zn-3Bi solder (Mag = 1000×).

Bi segregation and diffusion shown in SEM image: (a) bulk solder after aging at 100 °C for 100 h (b) Sn-8Zn-3Bi/Cu interface
after aging at 150 °C for 100 h.


 The relationship between IMCs thickness and aging time (t1/2)

 Bi添加したほうがCu5Zn8成長遅い。


荘司  Sn−Zn、SnZnBiとCu







Islam HK
 Sn-Zn、Sn-Zn-Bi
  Sn−Zn系がSnPb、SACよりIMC成長速い。
  Cuとの界面はSnPb、SACはCu6Sn5だがSn−Zn系ではγCu5Zn8、βCuZnと不明なCu−Zn層形成。
  SnPbではリフロー時間長くするとCuの欠乏でCu3Snが形成されてくる。
  SACでCu−Sn IMC剥離が生じた。
  Sn−Znではリフロー時間で板状Znが大きくなったがSn−Zn−Biでは大きくならなかった。
  Cu消費はSnZnBi>SAC>SnZn>SnPbの順。








*AuなしのNi

Chiu 国立台湾大 Sn−8Zn−3BiとNi  研磨後RMAフラックス
 225−325℃まではNi5Zn21の連続層、より高温ではNi/NiZnSn/Ni5Zn21の2層  






(11−7−4) Sn−Zn−Al

富士通 Sn−Zn−Al  英文



 CuAl2が形成されZn−Cu IMCが抑制。

Ni/0.1Au
 Au−Zn−SnとZn−Sn−Niの2層からエージングでZn−Sn−Ni−Auの1層へ


Sn−Zn−Al Yu 台湾成功大
 Sn-9(5Al-Zn)、共晶点470K(197℃)、573Kディップ


  はんだ/γCu5Zn8/γ’Cu9Al4/Cu


Huang
 

 無電解Ni−P(6−8P)/0.1μmAu



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