(11−7) Zn含有はんだとCu、Ni基体
Zn含有はんだでは他のはんだと異なり、Cu、Ni基体との反応でSnのIMCでなく、ZnのIMCが形成される。
この場合Zn量によりSnのIMCからZnのIMCに変化していく。
はんだへのZn添加の影響はSAC等の特性改善のための微量添加と、共晶近傍Sn−ZnのCu及びNi基体との
反応について重点的に研究されている。
Ni/Auとの反応についてはZn−AuのIMCが形成され、Zn−NiのIMCは形成されないという文献と、Zn−Auの影響を
認めず、Zn−NiのIMCとする文献が並立する。
ZnはAgともZn−Ag IMCを形成するが、これの影響もはっきりしない。
Zn−Cu IMCの成長はSn−Cu IMCの成長よりかなり速い。
また微量添加されたZnはCu3Snの形成を抑制するとされる。
Bi添加の
Al添加では
Sn−Ag+Zn
SAC+Zn
Sn−Cu+Zn Sn−Zn+Cu
Sn−Zn−Bi Sn−Zn−Al
(11−7−1) Sn−xZnとCu基体
国立中央大楊 論文
Sn−xZn、X=0.5、0.7、2.0
Zn量によってCu6Sn5からCu5Zn8に変化、その中間はCu6Sn5とCuZnが共存。
250℃、2分
250℃で2分と10分
Yang 国立台湾大
はんだ量効果 はんだ浴とはんだボール
反応相は時間でなく組成の影響、時間はIMCの厚み
Sn−xZnとCu
反応相は時間でなく組成の影響、時間はIMCの厚み
Yan
Cu Sn−xZn、X=0.5、0.7、2.0
Zn量によってCu6Sn5からCu5Zn8に変化、その中間はCu6Sn5とCuZnが共存。
Ji 重慶大
Sn-6Zn、2層 Cu/薄いCuZn/γCu5Zn8
Siewrt Cu
Yu 台湾国立成功大
(11−7−2) Sn−xZnとNi基体
Zn添加 瀋陽 Zhang
Sn−xZn(x=0、0.5、1、2)、無電解Ni−10P
純SnではNi3Sn4の連続層、Pリッチ相が隣接。
0.5ZnでNi4(Sn,Zn)
Yoon 韓国 Yoon
Sn−9Zn BGA Ni−P/0.15Au
AuZn3形成、Ni−Zn、Ni−Sn、Ni3Pは認められない。
503Kピーク
Yen台湾 電解Ni/0.09Au
Sharif
電解Niと無電解Ni−P、Auは0.5μm。
剥離しているのはAuZn3。
Ni3Pは認められない。
Wang
BEI micrographs of the Sn?Zn/Ni interfacial reactions at 170 °C with various reaction time. (a) Sn-9wt%Zn/Ni for 120 h,
(b) Sn-3wt%Zn/Ni for 120 h, (c) and (d) Sn-1wt%Zn/Ni for 120 h
and 1320 h, respectively,
(e) Sn-3wt%Zn/Ni for 480 h and (f) Sn-9wt%Zn/Ni for 240 h
(a)〜(c) The natural logarithm of the Ni
5Zn
21 thickness versus the natural logarithm of time in the solid/solid reactions
of Ni with Sn-3wt%Zn/Ni, Sn-5wt%Zn and Sn-9wt%Zn, respectively. (d)〜(e)
The natural logarithm of the Ni
5Zn
21 growth
in the liquid/solid reactions of Sn-7wt%Zn/Ni and Sn-9wt%Zn/Ni, respectively.
Plots of square of the Ni
5Zn
21 layer thickness versus the reaction time in Sn?Zn/Ni solid/solid couples
at (a) 150 °C,
(b) 160 °C and (c) 170 °C.
Wang
BEI micrographs of Sn-9 wt%Zn/Ni couples reacted at 250 °C for
(a) 1 h, (b) 6 h, and (c) 24 h.
ISE micrographs of Ni
5Zn
21 layer at Sn-9 wt%Zn/Ni interface after reaction at 250 °C for
(a) 1 h, (b) 6 h, (c) 12 h,
(d) 24 h, (e) 36 h, and (f) 48 h.
The sublayer thickness of the Ni
5Zn
21 versus the reaction time in Sn-9 wt%Zn/Ni interfacial reactions at
250 °C
FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/Ni interface at 250 °C for (a) 12 h and (b) 24 h.
(c) The enlarged micrograph for the rectangular region enclosed by dotted
lines in (b). (d)
FIB cross-sectional images of the interface with rolled and annealed Ni
foil at 250 °C for 12 h.
BEI micrograph of the Sn-9 wt%Zn/Ni couple reacted at 250 °C
for 24 h. (b) EPMA line analysis across Sn-9 wt%Zn/Ni interface.
FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/Ni interface at 250 °C for (a) 10 min, (b) 20 min, (c) 30 min, and (d) 40 min.
Schematic illustrations of microstructure evolution of Ni
5Zn
21 formation. (a) Stage 1, (b) Stage 2, (c) Stage 3, and (d) Stage 4.
(a) FIB cross-sectional images of Sn-9 wt%Zn/electroplated Ni couple
reacted at 170 °C for 72 h. (b) and
(c) ISE micrographs of Ni
5Zn
21 layer formed with rolled and annealed Ni foil at 170 °C for 120 h
and 600 h,
respectively. (d) FIB cross-sectional image of Ni
5Zn
21 layer in (b).
(11−7−3) Sn−Zn−Bi
菅沼の概観 各種低温
HH問題(大阪大菅沼)
界面IMCはCu5Zn8、薄いCu−Zn相がCu側に存在。
エージングで反応層は凸凹が激しくなっていく。
はんだの共晶Zn相がエージングでCu5Zn8相に変化していく。
Mayappan
Bi添加
IMC layer formed between solder/Cu joints for as-soldered Sn-8Zn-3Bi solder.
IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 125 °C
for 700 h for (a) Sn-9Zn and (b) Sn-8Zn-3Bi solders.
IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 150 °C for 100 h for Sn-9Zn solder (Mag, 2000×).
IMC layer formed between solder/Cu joints isothermally aged at 150 °C
for 500 h for Sn-8Zn-3Bi solder (Mag = 1000×).
Bi segregation and diffusion shown in SEM image: (a) bulk solder after aging at 100 °C for 100 h (b) Sn-8Zn-3Bi/Cu interface
after aging at 150 °C for 100 h.
The relationship between IMCs thickness and aging time (t
1/2)
Bi添加したほうがCu5Zn8成長遅い。
荘司 Sn−Zn、SnZnBiとCu
Islam
HK
Sn-Zn、Sn-Zn-Bi
Sn−Zn系がSnPb、SACよりIMC成長速い。
Cuとの界面はSnPb、SACはCu6Sn5だがSn−Zn系ではγCu5Zn8、βCuZnと不明なCu−Zn層形成。
SnPbではリフロー時間長くするとCuの欠乏でCu3Snが形成されてくる。
SACでCu−Sn IMC剥離が生じた。
Sn−Znではリフロー時間で板状Znが大きくなったがSn−Zn−Biでは大きくならなかった。
Cu消費はSnZnBi>SAC>SnZn>SnPbの順。
*AuなしのNi
Chiu 国立台湾大 Sn−8Zn−3BiとNi 研磨後RMAフラックス
225−325℃まではNi5Zn21の連続層、より高温ではNi/NiZnSn/Ni5Zn21の2層
(11−7−4) Sn−Zn−Al
富士通 Sn−Zn−Al
英文
CuAl2が形成されZn−Cu IMCが抑制。
Ni/0.1Au
Au−Zn−SnとZn−Sn−Niの2層からエージングでZn−Sn−Ni−Auの1層へ
Sn−Zn−Al Yu 台湾成功大
Sn-9(5Al-Zn)、共晶点470K(197℃)、573Kディップ
はんだ/γCu5Zn8/γ’Cu9Al4/Cu
Huang
無電解Ni−P(6−8P)/0.1μmAu